《表1 实验参数：GZO薄膜溅射工艺对性能的影响研究》

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《GZO薄膜溅射工艺对性能的影响研究》

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本文通过采用三靶共溅射镀膜系统在玻璃基板上室温制备高质量GZO薄膜。磁控溅射工作原理即荷能Ar粒子轰击靶材表面，最终使靶材原子或分子从靶材表面逸出沉积在衬底上的现象。首先，将玻璃衬底进行清洗，放入真空腔室内，抽至本底真空达到3.5×10-4 Pa，选用北京合纵公司生产的GZO(ZnO∶Ga2O3=99.5∶0.5 wt%）陶瓷靶材，进行预溅射40 min，通过前期实验，优选一部分实验参数，请详见表1，在室温下制备GZO薄膜。