《表2 磁控溅射制备AlN薄膜的工艺参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《固贴式薄膜体声波谐振器性能受压电材料的影响分析》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用射频磁控溅射方法制备AlN薄膜，所用原材料为:单晶Si（100）薄片作为衬底，纯度为99.999 5%的金属Al靶作为溅射靶材，直径?49 mm，厚度3mm，工作气体为氩气和氮气，纯度均为99.9999%。制备工艺参数如表2所列。