《表2 薄膜制备的工艺参数》
薄膜采用国产南光1 100 mm腔体光学真空镀膜机制备,配有双电子枪和霍尔离子源,离子源能够有效提高薄膜的聚集密度和折射率[5],制备的工艺参数如表2所示。
图表编号 | XD00148856100 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.08.15 |
作者 | 石澎、王丽荣、张鸿佳、张宁、李超财、卢志坚 |
绘制单位 | 中山火炬职业技术学院、中山火炬职业技术学院、中山火炬职业技术学院、中山火炬职业技术学院、中山火炬职业技术学院、中山晶通光学技术有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |