《表1 样品工艺参数：磁控溅射法制备Al_2O_3复合高铝玻璃薄膜》

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《磁控溅射法制备Al_2O_3复合高铝玻璃薄膜》

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在引入沉积室之前，衬底依次在丙酮、超纯水、乙醇、超纯水中超声清洗各10 min，然后用纯度为99.5%的N2对衬底进行干燥，清洁完成后将硅片固定于玻璃表面，一同放入真沉积室。本底真空度为1.0×10-4 Pa，预溅射时间为10 min清洁靶材表面，沉积时间为4h。薄膜加工中使用的所有参数列于表1中。