《表2 c-Al2O3基底金属钒热氧化法制备氧化钒薄膜的工艺参数》
采用DPS-III型超高真空磁控溅射镀膜机制备金属钒膜,再通过AG-610型快速热处理系统对上述溅射沉积的金属钒薄膜进行氧化处理,从而形成氧化钒薄膜。制备工艺条件分别如表1和表2所示。
图表编号 | XD00101965300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.25 |
作者 | 韦晓莹、李心元、吴环宝、王天鹤、贾晓东 |
绘制单位 | 天津津航技术物理研究所、航天动力技术研究院、天津津航技术物理研究所、天津津航技术物理研究所、天津津航技术物理研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |