《表1 制备N掺杂二氧化钛薄膜的工艺参数》
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《氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响》
通过改变N2流量，制备了一组N掺杂TiO2薄膜样品，分别命名为S0（0sccm），S1（4sccm），S2（8sccm），S3（12sccm）和S4（16sccm）。所有样品的厚度均为400nm。磁控溅射制备N掺杂TiO2薄膜的具体工艺参数列于表1。
| 图表编号 | XD0053414700 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.06.20 |
| 作者 | 杨勇、汪冰洁、姚婷婷、李刚、金克武、沈洪雪、王天齐、杨扬、彭赛奥、甘治平、马立云 |
| 绘制单位 | 浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司、浮法玻璃新技术国家重点实验室中建材蚌埠玻璃工业设 |
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