《表1 不同含量ZnO掺杂ZnSb薄膜的制备条件与成分》
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《ZnO掺杂对ZnSb相变薄膜结构和电学特性的影响》
使用日本日立SU8010场发射电子显微镜自带的能谱仪,采用面扫描的方式测试薄膜成分,结果见表1,其中Ar流量为40 mL/min,背景压强为5×10-4 Pa。通过观察薄膜断面获得薄膜厚度为150~200 nm,如图1所示。
图表编号 | XD0052142600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.20 |
作者 | 吴德振、周细应、邱小小、郝艳、刘银杰 |
绘制单位 | 上海工程技术大学、上海工程技术大学、上海工程技术大学、上海工程技术大学、上海工程技术大学 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |