《表1 不同氮氧比条件下制备的薄膜的方块电阻》
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《不同氮氧比对N掺杂ZnO:Al薄膜结构及光电性能的影响》
表1是不同氮氧比条件下制备的N、Al共掺ZnO薄膜对应的方块电阻。当氮氧比由1∶4升高到3∶1时,薄膜方块电阻逐渐升高,当氮氧比为3∶1时,方块电阻达到相对极大值12 550.00Ω;当氮氧比由3∶1升高到6∶1时,方块电阻快速下降;当氮氧比由6∶1升高到9∶1时,方块电阻又略微升高。这是因为氮氧比由1∶4升高到3∶1时,N取代O主要以(N2)o施主缺陷存在,当氮氧比由3∶1变化为9∶1时,N取代O主要以No受主缺陷存在,薄膜导电性能由n型转变为p型导电,与文献[7]分析的结果一致。
图表编号 | XD006032900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.25 |
作者 | 高立华、高松华、陈礼炜 |
绘制单位 | 装备智能控制福建省高校重点实验室、三明学院机电工程学院、装备智能控制福建省高校重点实验室、三明学院机电工程学院、装备智能控制福建省高校重点实验室、三明学院机电工程学院 |
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