《表6 薄膜方块电阻、发射率随溅射时间的变化》

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《高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究》

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随溅射时间的延长，沉积到基材上的ITO原子越来越多，薄膜会越来越厚，如图7所示。同时，随溅射时间增加，ITO薄膜的组织结构更加完整、密集，表面连续性较好，载流子浓度和迁移率也随之增高，方块电阻迅速下降[21]，如表6所示。