《表1 溅射氧气流量：高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究》

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《高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究》

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通过调节不同的氧气流量研究ITO薄膜的光电性能。制备过程中具体试验参数设定为：工作气压0.4 Pa，靶基距5 cm，溅射时间50 min，溅射功率200 W，Ar流量20 mL/min，O2流量如表1所示。