《表1 金属钒膜制备工艺条件》

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《光诱导氧化钒薄膜原位太赫兹波调制特性研究》

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采用DPS-III型超高真空磁控溅射镀膜机制备金属钒膜，再通过AG-610型快速热处理系统对上述溅射沉积的金属钒薄膜进行氧化处理，从而形成氧化钒薄膜。制备工艺条件分别如表1和表2所示。