《表1 薄膜的沉积参数：NiFe_2O_4/(0.8BaTiO_3-0.2Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3)异质结层状复合薄膜的磁电性能》

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《NiFe_2O_4/(0.8BaTiO_3-0.2Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3)异质结层状复合薄膜的磁电性能》

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采用脉冲激光沉积法（pulsed laser deposition，PLD）在（001）-SrRuO3/SrTiO3（SRO/STO）衬底上生长了2-2型NFO/BT-NBT/SRO/STO和BT-NBT/NFO/SRO/STO异质结层状复合薄膜，SRO作为底电极（顶电极为Pt）。SRO、BT-NBT和NFO陶瓷靶材是采用高温固相反应法制备而得，靶材的致密度分别为96%，94%和95%。沉积薄膜之前需要把本底真空抽到优于1×10-4Pa，并采用恒压模式的激光轰击靶材表面进行预溅射（预溅射时基片被挡住）。PLD制备薄膜的氧压、沉积温度、激光频率、激光波长、激光能量密度、沉积时间、退火时间、靶材到衬底距离等参数如表1所示。