《表2 薄膜的晶格常数:NiFe_2O_4/(0.8BaTiO_3-0.2Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3)异质结层状复合薄膜的磁电性能》
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《NiFe_2O_4/(0.8BaTiO_3-0.2Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3)异质结层状复合薄膜的磁电性能》
△c=c-c*,where c*is the lattice constants of the bulk single crystal.
图1(a)为单相铁电、铁磁薄膜以及磁电复合薄膜的XRD衍射图谱。在XRD谱中没有发现杂相,且只有(00l)峰出现,这表明NFO/BT-NBT异质结磁电复合薄膜是沿c轴择优取向生长[14]。表2中展示了根据XRD计算得到的晶格常数。对于铁电相BT-NBT而言,在NFO/BT-NBT/SRO/STO复合薄膜中由于来自底层SRO和顶层NFO相的应力,从而导致BT-NBT相在NFO/BT-NBT/SRO/STO复合薄膜中的晶格畸变(-0.20%)大于在BT-NBT/SRO/STO单相铁电薄膜中的晶格畸变(-0.15%)和BT-NBT/NFO/SRO/STO中的晶格畸变(0.05%)。对于NFO铁磁相而言,在单相NFO/SRO/STO薄膜中的晶格畸变(-0.12%)介于NFO/BT-NBT/SRO/STO复合薄膜中晶格畸变(-0.04%)和BT-NBT/NFO/SRO/STO复合薄膜中的晶格畸变(-0.17%)之间。NFO/BT-NBT/SRO/STO复合薄膜中晶格畸变仅为-0.04%,这说明NFO受到的压应力几乎被完全释放,这是由于BT-NBT层在NFO/BT-NBT/SRO/STO异质结中起到了缓冲作用,减弱了来自于衬底的约束作用。这有利于在NFO/BT-NBT/SRO/STO异质结磁电复合薄膜中观察到较强的磁电耦合效应。
图表编号 | XD0039612600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.04.01 |
作者 | 代清平、邓朝勇 |
绘制单位 | 贵州大学大数据与信息工程学院贵州省电子复合材料重点实验室、贵州大学大数据与信息工程学院贵州省电子复合材料重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |