《表1 直流磁控反应溅射制备铂薄膜参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《退火工艺对薄膜型铂电阻热阻特性的影响探究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

本文以表面粗糙度不同的96氧化铝陶瓷为基底，制备了薄膜型铂电阻。氧化铝基底经过丙酮、乙醇、去离子水超声清洗后，用氮气吹干并用热板烘干，充分去除表面水分，这样有利于提高薄膜铂电阻与氧化铝陶瓷基底之间的结合力。实验设备为美国Kurt J.Lesker公司生产的LAB-18薄膜沉积系统，靶材为99.99%Pt，采用直流磁控反应溅射来制备铂薄膜。直流磁控反应溅射制备铂薄膜的反应参数如表1所示。