《表1 磁控溅射与激光熔覆制备HECs的优缺点》

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HECs的制备方法主要有磁控溅射[12]、激光熔覆[13]、电化学沉积[14]、等离子熔覆[15]、电弧热喷涂[16]、冷喷涂[17]等。其中，磁控溅射和激光熔覆最成熟。表1总结了这两种技术的特点。