《表1 Cr WN/Mo N纳米多层涂层沉积参数》

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《纳米调制周期对CrWN/MoN纳米多层涂层结构和性能的影响》

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采用电磁永磁共控的阴极电弧离子镀技术，制备不同调制周期的纳米多层Cr WN/Mo N涂层。试验采用的衬底材料为硅片和YT15硬质合金试块，分别用于结构和性能测试。将衬底材料镜面抛光，酒精超声清洗并烘干。将试片装夹在衬底架上，抽真空并加热，温度400℃，本底真空度到7×10-3 Pa后，依次对基底进行Ar和金属Mo离子刻蚀。刻蚀结束后，在1.5 Pa氮气气氛、-120 V偏压、125 A弧电流条件下，在基体表面沉积200 nm左右Mo N过渡层，然后开始沉积Cr WN/Mo N纳米多层涂层，所用靶材为Cr W合金靶和Mo纯金属靶，沉积时间为180 min。Cr WN/Mo N纳米复合涂层具体的沉积工艺参数见表1。