《表2 Al Cr BN/Al Cr N涂层沉积参数》

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《不同弧电流对AlCrBN涂层结构和性能的影响》

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涂层制备系统为离子源-平面弧-柱弧复合PVD镀膜系统[8]。炉内主要为4个?160 mm×15 mm的圆弧靶和一个?100 mm×850 mm的柱弧靶。两个Al Cr合金圆靶（原子比70/30，纯度99.97%）装配在第1、4号靶位，用于涂层的沉积；两个Al Cr B合金圆靶（原子比63/27/10，纯度99.95%）装配在第2、3号靶位，用于涂层的沉积[8]。沉积过渡层环节，使用两个Al Cr合金圆靶；工作层镀膜环节，开启四个合金靶。Al Cr BN涂层制备的具体参数如表2所示。