《表1 Cr2O3涂层的沉积参数》

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《基体、过渡层偏压和涂层厚度对氧化铬涂层结晶取向的影响》

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首先对硬质合金和高速钢试样进行打磨抛光，单晶硅片（[111]取向）为已经抛光的成品，其表面粗糙度比抛光后的硬质合金和高速钢试样更小。分别在去离子水、酒精、丙酮中对试样进行超声清洗，用压缩空气吹干表面液体，然后将样品安装于靶前16cm处，并立即抽真空。当真空室气压低于5×10-3Pa时，将样品加热至300℃，然后通入高纯氩气至气压2Pa，打开偏压电源至1000V，对样品进行辉光清洗20min。镀膜前处理完成后，通入流量200m L/min高纯氩气，电弧电流80A，沉积纯铬过渡层。最后，通入高纯Ar200m L/min，高纯O2 100m L/min，电弧电流80A，沉积氧化铬涂层。纯铬过渡层和氧化铬涂层的详细参数见表1。