《表1 a-C∶H涂层沉积参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《a-C∶H和ta-C涂层对7075铝合金的摩擦学特性》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用MDC600真空镀膜装置沉积a-C∶H涂层。设备配置电容耦合射频（RF）（13.56MHz）等离子体电源。基板为阴极，四甲基硅烷（Tetramethylsilane，TMS）和乙炔（C2H2）为前驱气体。放置在真空室中的样品基底先用氩氢等离子蚀刻30min；然后向真空室通入四甲基硅烷，在基板表面沉积一层Six Cy Hz粘结层，沉积时间2min；然后逐渐通入C2H2同时减少TMS流量并调整偏压输出，沉积一层含硅量梯度变化的Six Cy Hz涂层，沉积时间为8min；当TMS流量减少至0、同时C2H2达到预设值之后，维持沉积参数沉积a-C∶H涂层，沉积时间为1h。薄膜的沉积参数列于表1。