《表1 AlCrN/VN涂层沉积工艺参数》

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《AlCrN/VN多层涂层力学性能及其热稳定性》

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采用自制多弧离子镀设备在Si（100）、抛光不锈钢以及硬质合金刀片上沉积AlCrN/VN涂层。Al70Cr30合金靶材和单质V靶分别在真空室两侧相对布置，基底悬挂于真空室中心转架上，工件与靶面距离为250 mm，通过调节转架转速（1、2、3、4、5 r/min）来控制多层涂层的调制周期。基底先在丙酮以及酒精溶液中超声清洗，后用去离子水清洗及干燥。将真空室抽真空到2×10-3 Pa，并加热到250℃，以消除内壁上附着的水蒸气。涂层沉积前，先用V靶对基底进行轰击清洗，轰击电压为-1000 V，电源占空比为80%，轰击10 min，然后在150 V偏压下沉积10 min VN涂层作为过渡层，最后进行AlCrN/VN涂层沉积工艺，具体参数见表1。