《表1 锐钛矿TiO2涂层沉积工艺详情》

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《经不同Ar/O_2比与烧结温度制备的锐钛矿TiO_2涂层相结构及形貌研究》

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在真空室真空度达到一定水平时，沉积薄膜之前的Si片表面尚残留一些细小的氧化物杂质，因此，应进行反溅清洗。反溅清洗完毕后，先通入200 sccm的氩气，起辉Ti靶，保持其弧电流为80 A。起辉完毕后，逐步减小氩气通量，待稳定后通入氧气，溅射沉积时的真空腔室保持在0.6 Pa，同时设置Ar/O2比与烧结温度两个实验变量沉积时间为2 h。沉积后放入管式炉烧结成相，并用DX-2700型X射线衍射仪对辐照前后的锐钛矿涂层进行相结构分析。具体的工艺参数如表1所示。