《表1 TiBN涂层沉积参数》

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《偏压对TiBN纳米复合涂层结构及力学性能的影响》

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试验使用离子源辅助电弧离子镀系统，在单晶硅和硬质合金衬底上制备TiBN纳米复合涂层。实验所用的衬底材料分别依次在波尔清洗液和去离子水中超声清洗并烘干。极限真空5×10-3 Pa。在Ar气氛、2 Pa气压下，开启离子源对工件进行等离子体清洗，以保证衬底表面清洁无污物。辉光清洗结束后，开启金属Cr靶，在800 V，0.5 Pa的Ar气气氛中对衬底进行金属离子刻蚀，刻蚀结束后，降低偏压在纯N2气氛中先沉积5 min CrN过渡层，再沉积40 min TiBN涂层。制备过程中温度控制在300℃，总气压控制在0.7 Pa，具体工艺参数见表1。图1为TiBN涂层结构示意图，使用金属Cr轰击刻蚀，CrN作为过渡层，来提高TiBN涂层的膜基结合力。总厚度大约为2～3μm。通过自动控制系统实现涂层工艺运行。