《表1 涂层沉积参数：多弧离子镀制备氮化铬基涂层及其摩擦学性能研究》

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《多弧离子镀制备氮化铬基涂层及其摩擦学性能研究》

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采用多弧离子镀系统制备Cr N基涂层，基体材料选用P型（100）硅片和316L不锈钢.靶材为纯度99.99%的金属Cr靶和Cr Al合金靶（原子比Cr∶Al=1∶2）.将基底样片依次置入丙酮和酒精中进行超声波清洗15min；再将清洗好的基底样片经氮气吹干后置入真空镀膜室样品架，镀膜温度为400℃，本底真空为5×10-3Pa；用Ar等离子体对基材清洗10min以清除表面的氧化物及其它污染物.开启Cr靶电流为65A，偏压-20V，镀制Cr过渡层20min；向反应腔体内通入流量600m L·min-1的N2，分别沉积Cr N涂层、Cr ANl涂层和Cr/Cr N多层涂层.涂层沉积工艺参数如表1所示.