《表1 多弧离子镀工艺参数》

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《钛及钛合金多弧离子镀Ta-10W涂层的腐蚀性能》

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采用TC4及CP-Ti作为基体材料，TC4成分为：Al5.5%～6.8%，V3.5%～4.5%，Fe≤0.25%，O≤0.2%（均为质量分数）和Ti余量，靶材采用Ta-10W（0.9Ta，0.1W）。将基材切割成尺寸为20 mm×60 mm×4 mm的薄板，使用金相砂纸进行逐级打磨（由400#打磨至1 200#），表面处理至无明显划痕，丙酮清洗并烘干待用。采用MSP-1000型多弧离子镀镀膜机分别对不同基体涂镀Ta-10W涂层，其工艺参数如表1所列[20]。