《表1 多弧离子镀Ti Cr Si CN薄膜的工艺参数》

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《多弧离子镀TiCrSiCN硬质薄膜的微观结构与摩擦学性能》

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直径25 mm、高5 mm的4Cr5MoSiV1钢试样经丙酮、酒精、超声清洗除油后放入工业型多弧离子镀设备中。薄膜为Cr/TiSi/TiSiN/TiCrSiCN多元多层和梯度化设计，由四部分组成：首先以300 nm厚的金属Cr打底，再以100 nm厚的TiSi薄膜和200 nm厚度的TiSiN薄膜作为过渡层，最后制备TiCrSiCN薄膜（6～12μm）。镀膜工艺条参数见表1，其中1号和2号薄膜的制备工艺相同，只是时间不同，薄膜厚度会随镀膜时间延长而增大。