《表2 涂层沉积参数：TaC含量对Ti(C,N)-18%Ni金属陶瓷基体及其CVD涂层组织、性能的影响》
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《"TaC含量对Ti(C,N)-18%Ni金属陶瓷基体及其CVD涂层组织、性能的影响"》
获得的试样条经过抛光、清洗、干燥等工艺之后，利用化学气相沉积技术对金属陶瓷基体涂层。涂层沉积顺序是TiN/TiCN/Al2O3/TiN，具体工艺参数见表2。
| 图表编号 | XD00178245800 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2020.06.01 |
| 作者 | 秦承涛、熊计、郭智兴、刘俊波、游钱炳 |
| 绘制单位 | 四川大学机械工程学院、四川大学机械工程学院、四川大学机械工程学院、四川大学机械工程学院、四川大学机械工程学院 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
