《表1 PEMS CrSiN涂层的沉积参数》

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《等离子体增强磁控溅射CrSiN涂层摩擦磨损行为》

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选用316L不锈钢（规格：15 mm×10 mm×2 mm）作为基体材料。选用纯度分别为99.8%和99.99%的Cr靶和Si靶（规格：416 mm×106 mm×12 mm）为镀膜原材料。沉积涂层前，首先对基体进行打磨、抛光处理，接着采用丙酮和无水乙醇超声清洗，然后吹干装炉。采用MS650B型回旋式磁控溅射系统（沈阳科友真空技术有限公司）制备CrSiN涂层。为提高涂层质量，在基体表面沉积CrSiN涂层前，先预沉积一定厚度的金属Cr结合层和CrN过渡层。保持Cr靶功率和其他实验参数不变，通过调控Si靶功率获得四种含有不同Si含量的CrSiN涂层。详细的工艺参数如表1所示。