《表1 Al Cr ON基光谱选择性吸收涂层的制备工艺参数》

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《大气条件下AlCrON基光谱选择性吸收涂层的热稳定性》

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实验选用的不锈钢基片尺寸为30 mm×40 mm×1 mm，沉积前撕掉表面的塑料保护膜，放入盛有丙酮的烧杯中，超声清洗15 min，除去表面的粘胶，然后取出放入盛有无水乙醇的烧杯中，超声清洗15 min，除去基片上残留的清洗液，再用大量去离子水冲洗，去除表面附着的乙醇，并在N2下烘干。然后，在HPARC-I多弧离子镀设备上进行涂层的沉积，镀膜使用的靶材均为高纯级别的Cr靶（纯度为99.99%）和Al Cr靶（纯度为99.99%，Al和Cr的原子比为7∶3），基片绕底座圆盘公转，公转速率设为4 r/min，具体制备工艺参数如表1所示。