《表1 沉积TiN/TiCN多层膜的工艺参数》

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《TiN/TiCN多层调制结构薄膜的结构和力学性能研究》

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实验采用SA-6T型复合离子镀膜设备在304不锈钢基体上制备TiN薄膜与TiN/TiCN多层膜，薄膜制备过程选用纯钛靶（多弧离子镀）和纯石墨靶（磁控溅射）阴极靶材，同时采用Ar作为保护性气体，纯度高达99.9%的N2作为反应气体。镀制过程如下：试样表面研磨抛光并用丙酮和无水乙醇清洗后干燥→安置靶材和预镀件试样→抽取粗真空→预热→抽取高真空→辉光清洗→弧光清洗→镀纯Ti过渡膜→镀制TiN/TiCN多层膜→取样。表1为制备薄膜过程的沉积工艺参数。