《表1 Ti N/Ag多层膜的实验工艺参数》

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《Ag靶弧流对TiN/Ag多层膜结构和性能的影响》

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采用国产SA-6T型离子镀膜机在医用不锈钢基体上制备Ti N/Ag多层膜，选用2个纯度为99.99%的Ti靶材和1个纯度为99.99%的Ag靶材作为电弧离子镀镀膜材料。在沉积多层膜过程中固定直流偏压50 V，脉冲偏压-150 V，占空比30%，腔室温度200℃，工作气压控制在0.6 Pa，保持Ar与N2的分压比为1∶5，沉积时间60 min，调节Ag电弧靶的弧流分别为40，45，50，55 A。沉积样品前，先将高速钢用砂纸打磨、抛光至镜面。然后将基体材料依次放入乙醇和丙酮中超声清洗15 min，吹风机吹干后，置于腔室基体架上，靶基距为30 cm。当腔室的本底真空度优于6 m Pa时，通入纯度为99.99%的氩气至5 Pa，调节直流偏压为200 V，脉冲偏压为-600 V，占空比为60%，对基体进行辉光清洗15 min，以清除基体表面的杂质和吸附气体。然后，调节氩气气压至0.6 Pa，在保持偏压和占空比不变的条件下打开Ti靶电弧，利用Ti电弧靶蒸发出来的Ti离子对基体表面溅射清洗5 min，以清除靶材表面的杂质。随后保持Ar气压0.5 Pa，分别调节直流偏压和脉冲偏压至50 V和-150 V，沉积3 min纯金属Ti层。最后保持工作气压为0.6 Pa，在不同Ag电弧靶的弧流下镀制多层膜样品。制备Ti N/Ag多层膜的主要工艺参数见表1。