《表2 CNx/DLC多层膜的制备参数》

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《DLC层厚度对CN_x/DLC多层膜结构及摩擦学性能的影响》

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P-Sputtering power；T-Temperature.

DLC层在高纯氩气中进行沉积，沉积9.0 nm厚度所需的停留时间为439 s，其他厚度按比例减小；CNx层在高纯氩气与高纯氮气的混合气氛中进行沉积，每层的停留时间为25 s。作为对比，在相同工艺参数下制备了相近厚度的CNx膜和DLC膜。具体实验参数如表2所示。