《表1 多层膜主要工艺参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《调质结构对Ti-TiN-Zr-ZrN多层膜力学性能影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用国产定制AS700DTX型计算机全自动控制十二弧源真空阴极电弧沉积装置制备多层膜。通过调节Ti靶（纯度>99.5%）及Zr靶（纯度>99.5%）的启停和所通入气体的种类（纯度>99.999%的N2和Ar），依次沉积软硬交替Ti-TiN-Zr-ZrN四层结构为一周期，金属（Me）层与金属氮化物（Me N）层的比例为1:6。沉积温度350~380℃；靶电流90~100 A；脉冲偏压-100~-200 V，占空比90%；N2压强0.8~1.0 Pa。通过计算机程序自动控制不同调制周期、不同RTi/Ti N:RZr/ZrN调制比和不同厚度（周期数）。具体参数设计如表1。