《表1 金刚石膜的沉积参数，厚度，速率和时间》

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《915 MHz高功率MPCVD装置制备大面积高品质金刚石膜》

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如表1所示，本研究在60 kW微波输入功率，20 kPa沉积气压下进行了直径5 inch金刚石膜的制备，装置稳定沉积时间超过450 h。在相同微波输入功率和沉积气压下，随着甲烷浓度和沉积温度的提高，金刚石膜样品A的沉积速率相比于样品B的生长速率大幅度提高。