《表1 改变溅镀功率得到的 (Al CrNbSiTiV) N薄膜厚度和沉积速率》

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《高功率脉冲磁控溅射沉积(AlCrNbSiTiV)N薄膜提升刀具的切削性能》

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由表1可知，溅镀功率增大时，（AlCrNbSiTiV）N薄膜的厚度和沉积速率均呈稳定上升的趋势。溅镀功率越大，脉冲电流就越大，原子间的致密性越好，沉积速率也越高。实验结果与文献[9]所描述的原理相吻合。