《表1 Mo S2-Al复合薄膜的沉积参数Tab.1 Deposition parameters of Mo S2-Al composite films》
实验选用高温合金钢(型号为GH4169,18 mm×18mm×2 mm)和单晶硅(100)为基底材料。其中,单晶硅试样用于材料的表征测试。利用非平衡磁控溅射在基底表面沉积Mo S2-Al复合薄膜,薄膜沉积之前,先后使用丙酮和乙醇超声清洗各15 min,氮气吹干后,将其置于镀膜腔体内。然后,利用Ar等离子体清洗15 min以除去基底表面的氧化物和污染物。薄膜沉积时,溅射气体为Ar,具体的沉积参数如表1所示。
图表编号 | XD004074500 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2018.03.20 |
作者 | 杨保平、高斌基、张斌、强力、高凯雄、张俊彦 |
绘制单位 | 兰州理工大学石油化工学院、兰州理工大学石油化工学院、中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室、中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室、中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室、中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室、中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
查看“表1 Mo S2-Al复合薄膜的沉积参数Tab.1 Deposition parameters of Mo S2-Al composite films”的人还看了
- 表2 金刚石衬底上不同晶体结构Y2O3薄膜制备工艺参数Tab.2 Deposition parameters of Y2O3 films with different crystal structures on diamond substr