《表2 Mo Cl5-[BMP]Tf2N体系中恒电位电沉积1 h沉积物的EDS分析Table 2 EDS analysis of deposition obtained by potentiostat

《表2 Mo Cl5-[BMP]Tf2N体系中恒电位电沉积1 h沉积物的EDS分析Table 2 EDS analysis of deposition obtained by potentiostat   提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《钼在[BMP]Tf_2N离子液体中的低温电沉积》


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在TEM观察同时进行了EDS分析，结果如图7所示。可见沉积物主要是Mo，这也进一步证实TEM电镜观测的晶态物质为金属Mo。图谱中Cu和C元素来自使用的多孔微栅，少量的Pt元素存在是刮下镀层时基板粘附其上所致。极少的Cl元素来自Mo Cl5。

图表编号XD0011243600    严禁用于非法目的
绘制时间2018.05.01
作者杨慧玲、丁晶晶、江奕东、凌国平
绘制单位浙江大学、中国工程物理研究院、中国工程物理研究院、浙江大学
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