《表2 金刚石衬底上不同晶体结构Y2O3薄膜制备工艺参数Tab.2 Deposition parameters of Y2O3 films with different crystal structu

《表2 金刚石衬底上不同晶体结构Y2O3薄膜制备工艺参数Tab.2 Deposition parameters of Y2O3 films with different crystal structu   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《金刚石上不同晶体结构Y_2O_3膜性质与增透性能研究》


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将金刚石材料在丙酮和无水乙醇中各超声清洗15 min后,吹干,放入TSU-600多功能镀膜机。沉积前,在高真空和加热的条件下,通入一定量Ar气,用偏压电源对衬底进行辉光清洗20~30 min,进一步去除衬底表面的微观杂质和氧化物等。随后基于直径?50.8 mm、纯度为99.99%的高纯钇靶反应磁控溅射制备Y2O3薄膜,相应的工艺参数见表2。其他工艺参数相同,只改变氧气与氩气流量比例,获得了两种不同晶体结构的Y2O3薄膜。基于两种不同晶体结构Y2O3薄膜的沉积速率,相应地控制沉积时间,以获得厚度接近的Y2O3薄膜。