《表2 HFCVD金刚石薄膜的工艺参数Tab.2 Process parameters of diamond films by HFCVD》
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淀积金刚石薄膜的过程分为两个阶段:形核阶段和生长阶段，两者相互关联却又有所区别。实验条件如表2所示。实验完成后，利用扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）对金刚石薄膜进行检测。
| 图表编号 | XD001090200 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2018.01.03 |
| 作者 | 路一泽、檀柏梅、高宝红、刘宜霖、张礼 |
| 绘制单位 | 河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室 |
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