《表1 三种薄膜的制备工艺参数Tab.1 Preparation process parameters of three films》

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《盐雾腐蚀条件下Ti合金表面功能薄膜的摩擦磨损性能》

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采用磁控溅射方法制备铬掺杂类金刚石（Cr-DLC）薄膜和钨掺杂类金刚石（W-DLC）薄膜，采用多弧离子镀方法制备氮化钛（Ti N）薄膜，表1是制备薄膜的工艺参数。为提高Cr-DLC薄膜、W-DLC薄膜的膜/基界面结合力，采用双层结构的薄膜设计。图1是双层结构薄膜的示意图，其中过渡层选用Cr N薄膜，厚度为1~2μm，面层为金属掺杂类金刚石薄膜，厚度为1.5~2μm。