《表1 Mg-Al合金薄膜电子束蒸发工艺参数Tab.1 Process parameters for the electron-beam evaporation of Mg-Al alloy thin
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Mg-Al复合氧化物薄膜的阳极氧化制备[2]需经过Mg-Al合金薄膜蒸镀及其阳极氧化等两步制备工艺过程。首先，Mg-Al合金薄膜采用双源电子束蒸发制备在玻璃基板上，工艺参数如表1所示，靶材为市购的6×6 mm高纯Al和Mg颗粒，纯度分别为99.999%、99.99%。
| 图表编号 | XD0019704200 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2018.03.30 |
| 作者 | 杨耀杰、杨俊华、谭晓婉、李俊峰、李庆青、偰正才 |
| 绘制单位 | 深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院 |
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