《表1 采用不同方法在介质衬底上制备h-BN二维晶体的优缺点》
与金属衬底不同,由于缺乏催化活性,在介质衬底上生长h-BN二维晶体存在一定困难。近年来,人们已经采用CVD、金属有机气相沉积(MOVPE)、PVD等方法,在Si基(Si、Si3N4/Si以及SiO2/Si)、蓝宝石或石英等介质衬底上成功生长了h-BN二维晶体,并发展了多种方法来改善h-BN二维晶体的成核和生长过程,从而得到了结晶质量高、性能优异的h-BN二维晶体,表1总结了不同技术方法的优缺点,其详细研究进展分述如下。
图表编号 | XD008197200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.01 |
作者 | 张兴旺、高孟磊、孟军华 |
绘制单位 | 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心 |
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