《表1 不同沉积功率下制得的Zr O2薄膜的溅射速率》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《溅射功率对二氧化锆薄膜结构及力学性能的影响研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

式中，lmfp为溅射原子的平均自由程；Rt和r分别为溅射原子和Ar原子的半径；P为溅射气压；R为气体常量；NA为阿伏加德罗常数；T为热力学温度。惰性气体Ar的半径取71 pm，Zr原子的半径为155 pm，氧原子半径为60 pm[16]。在本实验中，R、NA、r、Rt为常数，P固定为0.5 Pa，只有温度T会随着功率增大而增大；而平均自由程的变化速率与温度变化速率成正比。根据薄膜生成理论[17]，溅射功率越大，氩气分子离化率越高，氩离子所携带的能量越大，轰击到靶材时溅射出的溅射原子也越多；在本次实验中，功率在50 W，65 W，85 W，100 W时沉积速率呈表1中的关系变化。