《表2 以FTO为基底在不同退火温度下制得的Sn O2薄膜的电学性能参数》
利用范德堡法测试了沉积在FTO玻璃上不同退火温度Sn O2薄膜的电学性能,结果见表2。当Sn O2退火温度为180℃时,薄膜的电子迁移率最高,高的电子迁移率可以降低电子–空穴的复合率,有利于ETL中电荷的提取和转移,从而提升PSC的JSC。
图表编号 | XD00211803700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.02.01 |
作者 | 王艳香、高培养、范学运、李家科、郭平春、黄丽群、孙健 |
绘制单位 | 景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院、景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院 |
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