《表1 试验因素与水平:高熵合金AlCrNbSiTiV氮化物薄膜溅镀参数的优化》
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《高熵合金AlCrNbSiTiV氮化物薄膜溅镀参数的优化》
采用田口方法分析沉积时间、基材偏压、溅镀功率和基材温度对溅镀薄膜的沉积速率、薄膜硬度和刀具切削性能的影响,然后通过灰色关联实现多目标的优化。各因子的取值和水平见表1,L9(34)四因素三水平正交表见表2。
图表编号 | XD0014509100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.08.15 |
作者 | 万松峰、许春耀、张钰乾 |
绘制单位 | 东莞职业技术学院机电工程系、龙华科技大学机械工程系、东莞职业技术学院机电工程系 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |