《表3 TaWTiVCr高熵合金薄膜的粗糙度》
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《TaWTiVCr高熵合金薄膜的制备及微观结构、力学性能研究》
图3中给出了Ta37W36Ti8V11Cr8、Ta10W10Ti24V26Cr29等6组样品的形貌特性。每组样品通过AFM进行表面形貌采集,并计算粗糙度,薄膜的平均粗糙度(Ra)、均方粗糙度(Rq)和最大粗糙度(Rmax)结果如表3所示。
图表编号 | XD00145564100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.20 |
作者 | 李荣斌、黄天、蒋春霞、张如林 |
绘制单位 | 上海理工大学材料科学与工程学院、上海电机学院材料学院、上海理工大学材料科学与工程学院、上海电机学院材料学院、上海电机学院材料学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |