《表1 Ti O2薄膜沉积速率》

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《直流磁控溅射制备锐钛矿TiO_2薄膜生长速率的研究及其在多层膜制备中的应用》

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a0为波尔半径，a是汤姆逊·费米半径，E为离子能量，M1和M2分别为入射离子和溅射粒子的原子序数。ε为折合质量，随E的增加而增大，溅射产率增加[26]。因此，溅射功率增加，入射离子的动能变大，溅射靶材时离子产率增加，而且溅射粒子的动能也增加，对应较大的溅射速率。