《表1 不同沉积气压下制备的Mo S2薄膜的原子含量》

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《射频反应磁控溅射制备MoS_2薄膜结构及光学性能》

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使用SEM系统搭载EDS成分分析部件，对Mo S2薄膜的元素组成进行测定，能谱图如图2（沉积条件300W，1.0Pa），不同条件下制备的薄膜原子百分含量具体数据见表1。由表可见，Mo S2薄膜中的Mo原子含量与S原子含量大致为2:1，说明射频磁控溅射制备Mo S2薄膜结构比较稳定。薄膜中的O成分含量较高，主要是由于样品测试前薄膜吸附了空气中的水所致。