《表2 不同脉冲电流密度下制备的Ti N薄膜的平均沉积速率》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《脉冲电流密度对磁控溅射制备TiN薄膜组织与性能的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

薄膜沉积效率可以利用平均沉积速率来衡量，不同脉冲电流密度下制备的薄膜的平均沉积速率见表2。可以明显看到，当阴极与阳极的功率一致时，通过降低脉冲占空比的方法将脉冲电流密度增大到0.80 A/cm2时，将会引起Ti N薄膜平均沉积速率的减小，变为18.6nm/min，由此表明薄膜沉积效率下降了。在脉冲电流密度低于0.60 A/cm2的情况下，薄膜平均沉积速率约22.4 nm/min。