《表2 不同电流密度下制备的Ni-Cr-Mn合金镀层的自腐蚀电位与自腐蚀电流密度》
图4为不同电流密度下制备的Ni-Cr-Mn合金镀层的Tafel曲线。表2为对应的自腐蚀电位与自腐蚀电流密度。由图4和表2可知:当电流密度为7~13A/dm2时,随着电流密度的增大,曲线逐渐正移,自腐蚀电流密度减小,镀层的耐蚀性增强。当电流密度为13A/dm2时,自腐蚀电位最正,自腐蚀电流密度最小,镀层的耐蚀性最好。当电流密度超过13A/dm2后,自腐蚀电流密度增大,镀层的耐蚀性降低。这是因为电流密度过小时,镀层较薄,覆盖能力下降,耐蚀性较差。随着电流密度的增大,NiCr-Mn合金共沉积的反应速率加快,阴极极化增大,镀层表面均匀、致密,耐蚀性增强。当电流密度超过13A/dm2时,析氢副反应加剧,镀层表面容易产生针孔、微裂纹、起皮等缺陷,耐蚀性降低。
图表编号 | XD0014279800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.01.30 |
作者 | 张志桐、王心悦、刘海鹏、孟庆波、李运刚、杨海丽 |
绘制单位 | 华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室 |
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