《表7 不同前处理工艺制备的镀层的自腐蚀电位和自腐蚀电流》

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《前处理工艺对钛合金化学镀镍性能的影响》

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图2为基体分别经三种前处理工艺处理及不经前处理所获得的镍镀层的塔菲尔曲线，表7为四种样品的自腐蚀电位和自腐蚀电流密度。从图2可以看出，基体经前处理后获取的镀镍层的自腐蚀电位正移，自腐蚀电流密度减小，镀层耐蚀性均增强。从表7可以看出浸蚀/活化/二次浸锌工艺制备的镀层的自腐蚀电位为-0.3980 V，自腐蚀电流为2.927μA·cm-2，比其他工艺镀层的自腐蚀电位更正，自腐蚀电流更小，表明该镍镀层的耐蚀性最好。